基板洗浄システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐野章吾 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996338872
Publication number (International publication number)：1998163146
Application date： Dec. 03, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】単一の密閉された洗浄室内でウエハを一枚ずつカセットレスでウェット洗浄することにより、パーティクルの再付着等もなく高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なうことができ、しかも装置構成が単純かつコンパクトで多品種少量生産にも有効に対応できる基板洗浄システムを提供する。【解決手段】洗浄処理前のウエハが複数枚ストックされて搬入待機する基板搬入装置Bと、ウエハを一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する複数の枚葉式の基板洗浄装置Aと、洗浄処理後のウエハが複数枚ストックされて搬出待機する基板搬出装置Cと、これら装置A,BまたはA,C間で、ウエハを一枚ずつ移載する移載ロボットDと、これら装置A、B、Cを相互に連動して制御するシステム制御装置Fとを備え、基板搬入装置B、基板洗浄装置Aおよび基板搬出装置Cが環状に配列されて環状配列群が形成されるとともに、この環状配列群の中心位置に移載ロボットDが配置されてなる。

Claim (excerpt)：

洗浄処理前の基板が複数枚ストックされて搬入待機する基板搬入装置と、基板を一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する複数の枚葉式の基板洗浄装置と、洗浄処理後の基板が複数枚ストックされて搬出待機する基板搬出装置と、前記基板搬入装置と基板洗浄装置の間およびこの基板洗浄装置と前記基板搬出装置との間で、基板を一枚ずつ移載する基板移載装置と、これら基板搬入装置、基板洗浄装置、基板搬出装置を相互に連動して駆動制御するシステム制御装置とを備えてなり、前記基板搬入装置、基板洗浄装置および基板搬出装置が環状に配列されて環状配列群が形成されるとともに、この環状配列群の中心位置に前記基板移載装置が配置されてなることを特徴とする基板洗浄システム。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (2)：

H01L 21/304 341 C , H01L 21/304 341 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平2-114528
基体表面からの気相ゴミ除去装置及び除去方法並びにプロセス装置及びプロセスライン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-244992 Applicant：大見忠弘, 日本真空技術株式会社
基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-190059 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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