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J-GLOBAL ID：200903083898126895

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 山近 幹雄 ,  小林 英一 ,  大田 利幸 ,  辻 昭
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994270332
Publication number (International publication number)：1995209868
Application date： Oct. 07, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 酸の存在下にアルカリ可溶性となる重合体および放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物において、重合体が下記一般式(1)および一般式(2)で表される2種の繰返し単位と放射線照射後のアルカリ現像液に対する重合体の溶解性を低減させる繰り返し単位からなる重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】【効果】 微細パターンを良好なパターン形状で形成する化学増幅型ポジレジストを提供するものである。体積収縮や剥離、および接着不良がなく、ドライエッチング耐性に優れており、さらに、各種の放射線に有効に感応して、リソグラフィプロセス安定性に優れるとともに、特に微細パターンの形成において上部に細りのない良好な形状を与える利点を有する。

Claim (excerpt)：

酸の存在下にアルカリ可溶性となる重合体(イ)および放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤(ロ)を含有してなる感放射線性樹脂組成物において、重合体(イ)が下記一般式(1)および一般式(2)で表される2種の繰返し単位と放射線照射後のアルカリ現像液に対する重合体の溶解性を低減させる繰り返し単位からなる重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1は水素原子またはメチル基であり、一般式(2)において、R2は水素原子またはメチル基である。〕

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-275149   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平4-211258
  
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173830   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 改良型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-266844   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-005795   Applicant：住友化学工業株式会社