反射防止コーティング用組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：池浦敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995131096
Publication number (International publication number)：1996305032
Application date： May. 01, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】フォトレジスト膜上に良質の干渉防止膜を形成するための反射防止コーティング用組成物を提供する。【構成】パーフロロアルキルカルボン酸と、有機アミンと、ポリビニルピロリドンと水とを含有する反射防止コーティング用組成物。この組成物の使用によれば、難溶化層形成が低減され、及び屈折率の低い干渉防止膜が形成できる。

Claim (excerpt)：

パーフロロアルキルカルボン酸、有機アミン、ポリビニルピロリドン及び水を含有することを特徴とする反射防止コーティング用組成物。

IPC (2)：

G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/11 503 , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-126265 Applicant：三菱化成株式会社
表面反射防止コーティングフィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-128453 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
反射防止膜材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088202 Applicant：信越化学工業株式会社

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Cited by examiner (7)

レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-126265 Applicant：三菱化成株式会社
表面反射防止コーティングフィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-128453 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
反射防止膜材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088202 Applicant：信越化学工業株式会社

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