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J-GLOBAL ID：200903084247706229

ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターン形成方法

Inventor： 内藤 卓哉 ,  後河内 透 ,  木原 尚子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998039331
Publication number (International publication number)：1999237741
Application date： Feb. 20, 1998
Publication date： Aug. 31, 1999
Summary：

【要約】【課題】 短波長光、特にArFエキシマレーザーを露光光として用いて、高い解像度で微細パターンを形成し得るネガ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 酸および酸無水物の少なくとも一方を構造中に含むアルカリ可溶性樹脂と、エポキシ環を有する分子量2000以下の化合物と、化学放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有することを特徴とするネガ型感光性組成物を含有するネガ型感光性組成物である。

Claim (excerpt)：

酸および酸無水物の少なくとも一方を構造中に含むアルカリ可溶性樹脂と、エポキシ環を有する分子量2000以下の化合物と、化学放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有することを特徴とするネガ型感光性組成物。

IPC (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• ネガ型フォトレジスト材料、およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-162716   Applicant：日本電気株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-188138   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-166068   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平4-367865
  
• 特開平3-107162
  
• レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法並びにレジスト剤用架橋剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-195038   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電子工業株式会社
• ネガ型レジスト材料、それを用いたパターン形成方法及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-343262   Applicant：日本電気株式会社