気化器及び気化供給装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002136892
Publication number (International publication number)：2003332243
Application date： May. 13, 2002
Publication date： Nov. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 CVD原料に伴って供給されるキャリアガスの供給量を減少させて気化供給を行なう場合であっても、気化室内における固体CVD原料の析出、付着を防止することができ、所望の濃度及び流量で極めて効率よく気化供給することが可能な気化器及び気化供給装置を提供する。【解決手段】 CVD原料供給部が、CVD原料の流路、キャリアガスの流路、これらの流路が合流して気化室へ通じる混合流路を有し、CVD原料の流路がCVD原料の圧力損失を生じさせる手段を備えてなる気化器とする。また、液体流量制御部と気化器の間に、CVD原料の圧力損失を生じさせる手段を備えてなる気化供給装置とする。

Claim (excerpt)：

CVD原料の気化室、CVD原料を該気化室に供給するためのCVD原料供給部、気化ガス排出口、及び該気化室の加熱手段を有する気化器であって、該CVD原料供給部が、CVD原料の流路、キャリアガスの流路、及び該2個の流路が合流して気化室へ通じるCVD原料及びキャリアガスの混合流路を有し、該CVD原料の流路がCVD原料の圧力損失を生じさせる手段を備えてなることを特徴とする気化器。

IPC (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

FI (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

F-Term (13)：

4K030AA11 , 4K030AA16 , 4K030BA01 , 4K030BA18 , 4K030BA22 , 4K030EA01 , 5F045AA04 , 5F045AB31 , 5F045AC08 , 5F045AC09 , 5F045BB08 , 5F045EE02 , 5F045EE05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

堆積チャンバへのプロセス材料の流れを制御する装置と方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-061020 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平3-008330
原料供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-289133 Applicant：株式会社荏原製作所

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