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J-GLOBAL ID：200903085291337547

エアロゾルデポジッション成膜装置

Inventor：
今中 佳彦

About 今中 佳彦

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明渡 純

About 明渡 純


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社

, 
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005006658
Publication number (International publication number)：2006193784
Application date： Jan. 13, 2005
Publication date： Jul. 27, 2006
Summary：
【課題】 緻密で膜密着性が高く、結晶性の良好な膜を形成可能なエアロゾルデポジッション成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜材料の微粒子をエアロゾル化するエアロゾル形成部20と、エアロゾル29にレーザ光を照射しエアロゾル29を形成する微粒子27を加熱する加熱部30と、エアロゾル29を基板43に向けて噴射して成膜を行う成膜部40と、成膜部40を減圧雰囲気に保持する排気系50などから構成し、加熱部30において、エアロゾルを形成する微粒子にレーザ光を照射して微粒子を加熱し、微粒子を構成する材料に誘起されている歪みを低減する。さらに加熱により微粒子の結晶性を向上し、微粒子表面の付着物を除去する。加熱された微粒子は、成膜部40で噴射ノズル42により噴射された際に断熱膨張により冷却されるので基板43に熱的なダメージを与えない。赤外線、紫外線、マイクロ波等によりエアロゾルを加熱する例をさらに開示する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
無機材料からなる微粒子をキャリアガスに分散させたエアロゾルを形成するエアロゾル形成手段と、 前記エアロゾルを噴射ノズルにより噴射して基体上に無機材料膜を成膜する成膜手段と、 前記エアロゾル形成手段と前記成膜手段との間に、前記エアロゾル中の微粒子を加熱する加熱手段と、を備え、 前記加熱手段は、高エネルギーの電磁波をエアロゾルに照射することを特徴とするエアロゾルデポジッション成膜装置。
IPC (2)：
C23C 24/08 ,  H01L 21/31
FI (3)：
C23C24/08 C ,  C23C24/08 B ,  H01L21/31 A
F-Term (26)：
4K044AA13 ,  4K044AA16 ,  4K044AB10 ,  4K044BA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BA14 ,  4K044BA15 ,  4K044BB01 ,  4K044BB10 ,  4K044BC05 ,  4K044BC06 ,  4K044CA23 ,  4K044CA24 ,  4K044CA71 ,  5F045AA00 ,  5F045AB31 ,  5F045AF07 ,  5F045BB07 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EK17 ,  5F045EK19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特許第2963993号明細書
  • 超微粒子成膜法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-210765   Applicant：工業技術院長
Cited by examiner (4)
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