半導体等製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997064018
Publication number (International publication number)：1998261687
Application date： Mar. 18, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】膜質が従来に比べ向上し、歩留まりも向上させることができる半導体等製造装置を提供すること。【解決手段】複数のドライ処理チャンバー7a,7b,7c,7d,7eと、各ドライチャンバー7a,7b,7c,7d,7e間をつなぐ搬送室6と、ロード・アンロードチャンバー8a,8b,8c,8dと、洗浄装置13とを有し、搬送室6と洗浄装置13とを接続せしめてあることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

複数のドライ処理チャンバーと、各ドライ処理チャンバー間をつなぐ搬送室と、被処理物を回動可能に保持するための保持体と、該被処理物にオゾン水を供給するためのオゾン水供給ノズルと、該被処理物に水素水を供給するための水素水供給ノズルとを内部に有する洗浄室を有する洗浄装置と、前記被処理物を該洗浄装置に搬入するとともに、ドライ処理後の被処理物を前記洗浄装置から搬出するロード・アンロードチャンバーとを有してなり、前記搬送室と前記洗浄装置とを直接又は間接的に接続したことを特徴とする半導体等製造装置。

IPC (5)：

H01L 21/68 , B08B 3/02 , C02F 1/46 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (6)：

H01L 21/68 A , B08B 3/02 C , C02F 1/46 A , H01L 21/304 341 C , H01L 21/304 341 Z , H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

搬送装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-154337 Applicant：東京エレクトロン東北株式会社
基板表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-108970 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄装置および洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-236028 Applicant：株式会社豊田中央研究所

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