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J-GLOBAL ID：200903085971407914

インプリント・リソグラフィ

Inventor： イヴォンヌ ヴェンデラ クリュイト - シュテゲマン ,  アレクセイ ユリーフィチ コレスニーチェンコ ,  ヘルマー ファン サンテン ,  エリック ロープシュトラ
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006149099
Publication number (International publication number)：2006339644
Application date： May. 30, 2006
Publication date： Dec. 14, 2006
Summary：

【課題】連続する層の間の位置調整を高い精度で実施することができるインプリント・リソグラフィ装置の提供。【解決手段】基板を保持するように構成された基板テーブルと、インプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレート・ホルダと、位置調整用センサとを有するインプリント・リソグラフィ装置であって、インプリント・テンプレート又はテンプレート・ホルダが、基板テーブル又は基板にインプリントされてインプリント位置調整用マークを形成するように構成されたテンプレート位置調整用マークを有し、インプリント・テンプレートが機能パターンを有し、テンプレート位置調整用マーク及び機能パターンが既知の空間関係を有し、位置調整用センサが、前記インプリント位置調整用マークの位置を決定するように構成されているインプリント・リソグラフィ装置。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

基板を保持するように構成された基板テーブルと、インプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレート・ホルダと、位置調整用センサとを有するインプリント・リソグラフィ装置において、 前記インプリント・テンプレート又は前記テンプレート・ホルダが、前記基板テーブル又は前記基板にインプリントされてインプリント位置調整用マークを形成するように構成されたテンプレート位置調整用マークを有し、 前記インプリント・テンプレートが機能パターンを有し、 前記テンプレート位置調整用マーク及び前記機能パターンが既知の空間関係を有し、 前記位置調整用センサが、前記インプリント位置調整用マークの位置を決定するように構成されているインプリント・リソグラフィ装置。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (2)：

5F046BA10 ,  5F046EA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

• 微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-130608   Applicant：日本電気株式会社
• 微細加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-337561   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平4-115518
  
• 特開平1-286309
  
• 特開平4-115518
  
• 特開平1-286309
  
• 特開昭64-077125
  
• 投影露光装置及び半導体デバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-193525   Applicant：キヤノン株式会社
• 露光装置及び像歪みの計測方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-119113   Applicant：ソニー株式会社
• 特開平4-115518
  
• 特開平1-286309