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J-GLOBAL ID：200903086239930660

リソグラフィー用下地材

Inventor： 大森 克実 ,  金子 文武 ,  井口 悦子 ,  佐藤 充 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996244050
Publication number (International publication number)：1998069072
Application date： Aug. 28, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】コンフォーマル性、反射防止効果に優れ、良好なレジストパターンを形成できるリソグラフィー用下地材を提供すること。【解決手段】重量平均分子量500,000〜2,000,000のアルカリ不溶性アクリル系樹脂及び高吸光性物質、さらに必要に応じ、少なくとも2個の架橋形成官能基をもつトリアジン化合物を含有するリソグラフィー用下地材。

Claim (excerpt)：

重量平均分子量500,000〜2,000,000のアルカリ不溶性アクリル系樹脂及び高吸光性物質を含有するリソグラフィー用下地材。

IPC (5)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-040523   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感光性樹脂用下地材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-041022   Applicant：住友化学工業株式会社
• 表面反射防止塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-301930   Applicant：三菱化学株式会社
• 反射防止膜およびレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-288131   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• リソグラフィー用下地材及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-212443   Applicant：東京応化工業株式会社
• 硬化性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-096427   Applicant：住友化学工業株式会社