表面反射防止塗布組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993301930
Publication number (International publication number)：1995160002
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】フォトレジストの反射防止膜として好適な、低屈折率(1.45以下)であり、水媒体にて塗布、除去ができ、且つ、塗布後の膜面維持が良好で残渣(スカム)等の問題も発生しない表面反射防止塗布組成物を提供する。【構成】水溶性ポリマー、水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止塗布組成物において、水溶性ポリマーがポリビニルピロリドンであり、且つ水溶性フッ素化合物が、ペルフルオロオクタンスルホン酸のモノ乃至テトラアルキルアンモニウム塩、又は、ペルフルオロオクタンスルホン酸とペルフルオロオクタンスルホン酸のモノ乃至テトラアルキルアンモニウム塩との混合物である表面反射防止塗布組成物。

Claim (excerpt)：

水溶性ポリマー、水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止塗布組成物において、?@水溶性ポリマーがポリビニルピロリドンであり、且つ?A水溶性フッ素化合物が、ペルフルオロオクタンスルホン酸のモノ乃至テトラアルキルアンモニウム塩、又は、ペルフルオロオクタンスルホン酸とペルフルオロオクタンスルホン酸のモノ乃至テトラアルキルアンモニウム塩との混合物であることを特徴とする表面反射防止塗布組成物。

IPC (2)：

G03F 7/11 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

反射防止膜材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088202 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-126265 Applicant：三菱化成株式会社
表面反射防止コーティングフィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-128453 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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