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J-GLOBAL ID:200903086470443526

電気光学装置およびその製造方法、ならびに電子機器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上柳 雅誉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002142136
Publication number (International publication number):2003332070
Application date: May. 16, 2002
Publication date: Nov. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】 陰極を光透過性として、発光層から放射される光を、陰極を通して基板とは反対側に取り出すタイプの電気光学装置において、電極特性を劣化させることなく外光反射を低減することができ、製造コストを低減できるようにする。【解決手段】 基板20上に回路部11を形成し、回路部11に設けられた駆動用TFT123に接続する画素電極としての陽極23またはその上層に設けられる機能層110のうち正孔注入層の少なくとも一方を光吸収性材料として、インクジェット法などで製造する。また、それらを含む画素部を覆う光透過性の封止基板30に、陽極23上に対応する開口部31aを残して、光吸収膜31を形成する。
Claim (excerpt):
対向する電極間に、正孔注入層と発光層とを備える電気光学装置であって、前記電極のうちの一方または前記正孔注入層の少なくとも一方が、光吸収性を有することを特徴とする電気光学装置。
IPC (6):
H05B 33/14 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/26
FI (7):
H05B 33/14 A ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/22 D ,  H05B 33/22 Z ,  H05B 33/26 A
F-Term (7):
3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007BB06 ,  3K007CC00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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