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J-GLOBAL ID:200903086783796829

感放射線性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996353286
Publication number (International publication number):1998177247
Application date: Dec. 17, 1996
Publication date: Jun. 30, 1998
Summary:
【要約】【課題】 感度、解像度およびパターン形状が優れるとともに、PED安定性に優れ、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)ビニルフェノールに代表される単量体に由来する繰返し単位と2-(フェノキシカルボニル)エチル(メタ)アクリレートに代表される単量体に由来する繰返し単位とを有する共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)で表される繰返し単位(1)と下記一般式(2)で表される繰返し単位(2)とを有する共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔一般式(2)において、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、R5は炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数2〜6のアルキリデン基を示し、R6は炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜11の環状アルキル基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜11のアラルキル基を示し、nは0〜5の整数である。〕
IPC (5):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-340980   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-039420   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-015395   Applicant:日本合成ゴム株式会社
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Cited by examiner (4)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-039420   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-340980   Applicant:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-015395   Applicant:日本合成ゴム株式会社
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