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J-GLOBAL ID：200903086894987470

液体噴射装置

Inventor：
高 橋 智 明

About 高 橋 智 明


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (6)： 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  名塚 聡 ,  森 秀行 ,  勝沼 宏仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002374964
Publication number (International publication number)：2004202867
Application date： Dec. 25, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：
【課題】被処理物から外れた領域に向けて液体噴射ヘッドから吐出された液滴のミスト化を防止する。【解決手段】本装置は、ノズルプレート17のノズル開口から液滴を吐出させる液体噴射ヘッド12と、噴射ヘッド12をヘッド走査方向に走査させる走査機構と、噴射ヘッド12から噴射された液滴が付与される被処理物6をヘッド走査方向に対して直交する送り方向に搬送する送り機構と、処理中の被処理物6の裏面側であって噴射ヘッド12に対向する領域に配置され、被処理物6から外れた領域に向けて吐出された液滴を吸収する吸収部材16と、吸収部材16及び吸収部材に隣接する部材の少なくとも一方とノズルプレート17との間に電位差を発生させる電位差発生手段20、21、22と、を備える。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
ノズル開口が形成されたノズルプレートを有し、前記ノズル開口に連通する圧力室内の液体に圧力変動を生じさせて前記ノズル開口から液滴を吐出させる液体噴射ヘッドと、 前記液体噴射ヘッドをヘッド走査方向に走査させる走査機構と、 前記液体噴射ヘッドから噴射された液滴が付与される被処理物を前記ヘッド走査方向に対して直交する送り方向に搬送する送り機構と、 処理中の前記被処理物の裏面側であって前記液体噴射ヘッドに対向する領域に配置され、前記被処理物から外れた領域に向けて吐出された液滴を吸収する吸収部材と、 前記吸収部材又は前記吸収部材に隣接する部材の少なくとも一方と前記ノズルプレートとの間に電位差を発生させる電位差発生手段と、を備えた液体噴射装置。
IPC (3)：
B41J2/01 ,  B41J2/18 ,  B41J2/185
FI (2)：
B41J3/04 101Z ,  B41J3/04 102R
F-Term (10)：
2C056EA16 ,  2C056EC12 ,  2C056EC38 ,  2C056FA02 ,  2C056FA10 ,  2C056HA33 ,  2C056HA60 ,  2C056JC11 ,  2C056JC15 ,  2C056JC17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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