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J-GLOBAL ID:200903087848797026

電子ビーム装置及び樹脂の硬化方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002189760
Publication number (International publication number):2004027153
Application date: Jun. 28, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】平面ビーム状で安定かつ制御容易な電子ビーム電流値で、放射線硬化型樹脂の硬化が行なえるようにすること。【解決手段】平面陰極4の表面から放出される電子をスリット2付きの金属遮蔽箱1より平面状の電子ビームとして発生する電子銃に、該平面陰極1と電子ビームの照射面7との間に電界を発生する網電極3を少なくとも一つ設け、放射線硬化型樹脂を該照射面7に固定して硬化させることを特徴とする樹脂の硬化方法によって、上記課題を解決する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
平面陰極の表面から放出される電子をスリット付きの金属遮蔽箱より平面状の電子ビームとして発生する電子銃に、該平面陰極と電子ビームの照射面との間に電界を発生する網電極を少なくとも1つは備えたことを特徴とする電子ビーム装置。
IPC (4):
C08F2/54 ,  G21K5/04 ,  H01J37/06 ,  H01J37/305
FI (4):
C08F2/54 ,  G21K5/04 F ,  H01J37/06 Z ,  H01J37/305 Z
F-Term (13):
4J011AA01 ,  4J011DB22 ,  4J011QA11 ,  4J011QA13 ,  4J011QA24 ,  4J011QA34 ,  4J011QB16 ,  4J011UA03 ,  4J011VA01 ,  5C030BB17 ,  5C030BC06 ,  5C034BB01 ,  5C034BB10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 電子線照射装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-205112   Applicant:株式会社太陽マテリアル, 岩崎電気株式会社, 信越化学工業株式会社
  • 電子ビームアニール装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-310209   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開平4-320405
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