位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井桁貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994317175
Publication number (International publication number)：1996172044
Application date： Dec. 20, 1994
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】ハーフトーン材料を用いた位相シフトマスクの欠陥を低減する【構成】 1)開口部3を有する半透過部材2が透明基板1上に被着されたハーフトーン位相シフトマスクにおいて,該開口部3内の透明基板1が所定の深さにエッチング除去され, 該開口部3と非開口部を透過する露光光の位相差がπになるように前記エッチング深さに応じて半透過部材2の厚さが調節されてなる位相シフトマスク,2)透明基板1上に半透過部材2を被着し,該半透過部材2をパターニングして開口部3を形成する工程と,次いで,該開口部3内の透明基板1を深さ方向に一部エッチング除去する工程とを有し,該開口部3と非開口部を透過する露光光の位相差がπになるように該半透過部材2の厚さと該エッチング深さを調節する位相シフトマスクの製造方法。

Claim (excerpt)：

開口部を有する半透過部材が透明基板上に被着されたハーフトーン位相シフトマスクにおいて,該開口部内の透明基板が所定の深さだけエッチング除去され, 該開口部と非開口部を透過する露光光の位相差がπになるように前記エッチング深さに応じて半透過部材の厚さが調節されてなることを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/08

FI (2)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

露光用マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-102698 Applicant：株式会社東芝
位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-031428 Applicant：大日本印刷株式会社
位相シフト露光マスクの形成方法、位相シフト露光マスク、及び位相シフト露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-123317 Applicant：ソニー株式会社

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