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J-GLOBAL ID：200903088308688674

フッ化物結晶の熱処理方法、光学部品の作製方法及び光学装置

Inventor：
千葉 隆夫

About 千葉 隆夫


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 西山 恵三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999088096
Publication number (International publication number)：2000281492
Application date： Mar. 30, 1999
Publication date： Oct. 10, 2000
Summary：
【要約】【課題】 アニール効果を高める為に、例えばフッ化カルシウムの場合、1000°C以上に昇温させてアニールすると、フッ化物結晶ににごりや着色が生じる。【解決手段】 本発明の特徴は、フッ化物結晶を熱処理する熱処理方法において、フッ化物結晶(100)を収容した熱処理炉(1)内に不活性ガス及び/又はフッ素系ガスをガス供給口(7)から導入し常圧又は加圧された当該ガス雰囲気下で該フッ化物結晶を加熱する。本発明によれば、フッ化物結晶の表面に吸着した酸素や金属不純物による、にごりや着色を防止できる。
Claim (excerpt)：
フッ化物結晶を熱処理する熱処理方法において、フッ化物結晶を収容した熱処理炉内を常圧又は加圧された不活性ガス及び/又はフッ素系ガス雰囲気とし、該雰囲気中で該フッ化物結晶を加熱する工程を含むことを特徴とするフッ化物結晶の熱処理方法。
IPC (6)：
C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  G03F 1/14
FI (6)：
C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01S 3/00 Z ,  G03F 1/14 B ,  H01L 21/30 515 D
F-Term (24)：
2H095BA02 ,  2H095BA06 ,  2H095BA07 ,  2H097AA11 ,  2H097AB09 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  4G077AA02 ,  4G077BE02 ,  4G077CD01 ,  4G077CF10 ,  4G077FE02 ,  4G077FE06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072YY06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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