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J-GLOBAL ID:200903088563070811
水素化法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
斉藤 武彦
, 畑 泰之
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002591415
Publication number (International publication number):2004533455
Application date: May. 17, 2002
Publication date: Nov. 04, 2004
Summary:
【課題】効率の高い水素化法を提供する。【解決手段】(i)少なくとも1個の不飽和炭素-炭素結合を含有する化合物の不均一系水素化法、及び(ii)少なくとも1個のC-Cl、C-Br又はC-I結合を含有する化合物の不均一系水添脱ハロゲン化法であって、本方法は、該化合物をイオン性液体の存在下に水素化剤及び不均一系水素化触媒と反応させることを含む。
Claim (excerpt):
少なくとも1個の不飽和炭素-炭素結合を含有する化合物の接触水素法において、該化合物をイオン性液体の存在下に水素化剤及び不均一系水素化触媒と反応させることを特徴とする接触水素化法。
IPC (7):
C07C29/17
, C07C5/08
, C07C15/46
, C07C33/32
, C07C45/62
, C07C47/21
, C07D473/00
FI (7):
C07C29/17
, C07C5/08
, C07C15/46
, C07C33/32
, C07C45/62
, C07C47/21
, C07D473/00
F-Term (24):
4H006AA02
, 4H006AC11
, 4H006AC41
, 4H006BA21
, 4H006BA22
, 4H006BA23
, 4H006BA24
, 4H006BA25
, 4H006BA26
, 4H006BA31
, 4H006BA35
, 4H006BA36
, 4H006BA51
, 4H006BA55
, 4H006BA61
, 4H006BA85
, 4H006FC52
, 4H006FC72
, 4H006FE11
, 4H039CA19
, 4H039CA21
, 4H039CA60
, 4H039CB10
, 4H039CB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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光学活性3-ヒドロキシイソブタン酸エステル類の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-300853
Applicant:株式会社日本触媒
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特開昭63-291643
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新規脂環式化合物及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-059297
Applicant:日産化学工業株式会社
-
遷移金属錯体をベースとする新規触媒組成物及び不飽和化合物の水素化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-153761
Applicant:アンスティテュフランセデュペトロール
-
1,3-ジフルオロベンゼンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-285201
Applicant:ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
-
アルキル化芳香族化合物の酸化方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-534252
Applicant:ザクイーンズユニバーシティーオブベルファースト
-
3-フェニルプロピオンアルデヒドの製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-513123
Applicant:ディーエスエムエヌ.ブイ.
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