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J-GLOBAL ID:200903088722191897
エタノールの製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
水野 勝文
, 岸田 正行
, 高野 弘晋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006281199
Publication number (International publication number):2008092910
Application date: Oct. 16, 2006
Publication date: Apr. 24, 2008
Summary:
【課題】 リグノセルロース系のバイオマスを原料とした糖化と発酵のコストを低減し、環境に対する負荷の少ない、効率的なエタノールの製造法を提供する。【解決手段】 リグノセルロース系バイオマスをアルカリ蒸解法で脱リグニンし、アルカリ蒸解したリグノセルロース系バイオマスを炭素源として糖化酵素生産菌を培養し、リグノセルロース系バイオマスの糖化に適した酵素を生産させ、得られた糖化酵素を含有する培養液とエタノール発酵菌をアルカリ蒸解したリグノセルロース系バイオマスに添加して発酵させることを特徴とするエタノールの製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
リグノセルロース系バイオマスをアルカリ蒸解法で脱リグニンし、アルカリ蒸解したリグノセルロース系バイオマスを炭素源として糖化酵素産生菌を培養し、リグノセルロース系バイオマスの糖化に適した酵素を生産させ、得られた糖化酵素を含有する培養液とエタノール発酵菌をアルカリ蒸解したリグノセルロース系バイオマスに添加して発酵させることを特徴とするエタノールの製造方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (9):
4B064AC03
, 4B064CA06
, 4B064CA21
, 4B064CB30
, 4B064CD22
, 4B064CD24
, 4B064DA01
, 4B064DA10
, 4B064DA16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
キノコ廃菌床を原料としたエタノール変換方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-203757
Applicant:株式会社雪国まいたけ, 国立大学法人長岡技術科学大学
-
バイオマスからのエタノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-203513
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
特開昭59-192093
-
アルコール又は有機酸の製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-288030
Applicant:月島機械株式会社
-
特開昭60-244294
-
セルロース含有物の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-387357
Applicant:月島機械株式会社
-
同時糖化発酵に適した組換えホスト
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-620106
Applicant:ザユニバーシティーオブフロリダリサーチファンデーション
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Cited by examiner (6)
-
バイオマスからのエタノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-203513
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
特開昭59-192093
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アルコール又は有機酸の製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-288030
Applicant:月島機械株式会社
-
特開昭60-244294
-
セルロース含有物の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-387357
Applicant:月島機械株式会社
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同時糖化発酵に適した組換えホスト
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-620106
Applicant:ザユニバーシティーオブフロリダリサーチファンデーション
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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