ホットプレートユニット

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：恩田博宣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000033429
Publication number (International publication number)：2000299281
Application date： Feb. 10, 2000
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】構造の複雑化や大型化を伴うことなく、短時間で冷却しうるホットプレートユニットを提供すること。【解決手段】このホットプレートユニット1は、ケーシング2の開口部4に、抵抗体10を有するホットプレート3を設置してなる。ケーシング2とホットプレート3とにより、流体を流通可能な空間S1が構成されている。

Claim (excerpt)：

ケーシングの開口部に、抵抗体を有するホットプレートを設置してなるホットプレートユニットであって、流体を流通可能な空間が前記ケーシングと前記ホットプレートとにより構成されていることを特徴とするホットプレートユニット。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H05B 3/68

FI (2)：

H01L 21/30 567 , H05B 3/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

半導体製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-300971 Applicant：ソニー株式会社
静電チャック付セラミックスヒーター
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-316374 Applicant：信越化学工業株式会社, 東京エレクトロン株式会社
加熱装置及びその製造方法、並びに処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-276278 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 信越化学工業株式会社

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