Pat
J-GLOBAL ID:200903089001655341
被覆硬質合金の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997326972
Publication number (International publication number):1999140623
Application date: Nov. 12, 1997
Publication date: May. 25, 1999
Summary:
【要約】【目的】 比較的短い処理時間で、ドロップレットが無く、硬質皮膜の密着性が優れ、被覆物の表面粗さが良好な被覆硬質合金の製造方法を提供する。【構成】 アークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法により硬質合金製基体に硬質皮膜を被覆する被覆硬質合金の製造方法において、イオン化して基体表面をエッチングするガスとしてクリプトンおよび/またはキセノンを用いる。
Claim (excerpt):
イオンプレーティング法により硬質合金製基体に硬質皮膜を被覆する被覆硬質合金の製造方法において、ガスをイオン化して基体表面をエッチングするエッチング工程に用いるガスとしてクリプトンガスおよび/またはキセノンガスを用いることを特徴とする被覆硬質合金の製造方法。
IPC (3):
C23C 14/02
, C23C 14/32
, C23F 4/00
FI (3):
C23C 14/02 Z
, C23C 14/32 B
, C23F 4/00 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
プラズマ気相蒸着法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-190536
Applicant:東芝タンガロイ株式会社
-
機械部品の表面処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-001715
Applicant:三菱電機株式会社
-
特開昭63-080538
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-332230
Applicant:日本電気株式会社
-
バイアススパツタリング法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-183572
Applicant:新日本製鐵株式会社
Show all
Return to Previous Page