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J-GLOBAL ID：200903089148557655

磁場補正装置

Inventor：
沖津 茂樹

About 沖津 茂樹

, 
塚本 英雄

About 塚本 英雄

, 
牧 晃司

About 牧 晃司


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006051803
Publication number (International publication number)：2007229046
Application date： Feb. 28, 2006
Publication date： Sep. 13, 2007
Summary：
【課題】コイルパターンの対称性に優れ精度よく磁場を補正することができる磁場補正装置を提供する。【解決手段】磁場発生手段により発生される磁場空間の分布を均一に補正するための磁場補正装置10において、所定のコイルパターン21a,21bが形成されたフレキシブル配線板20の両端部同士をその上下面が共に面一となるように突き合わせして円筒形に形成した。フレキシブル配線板20は、円筒形にされた状態で、中心軸に交差する方向に試料挿入用の開口部20A,20Bが設けられる。フレキシブル配線板20は複数枚積層される。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
磁場発生手段により発生される磁場空間の分布を均一に補正するための磁場補正装置において、 所定のコイルパターンが形成されたフレキシブル配線板の両端部同士をその上下面が共に面一となるように突き合わせして円筒形に形成したことを特徴とする磁場補正装置。
IPC (2)：
A61B 5/055 ,  G01R 33/387
FI (2)：
A61B5/05 332 ,  G01N24/06 520J
F-Term (7)：
4C096AA20 ,  4C096AB32 ,  4C096CA02 ,  4C096CA15 ,  4C096CA17 ,  4C096CA23 ,  4C096CA36
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (11)
  • MRI装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-007267   Applicant：株式会社東芝
  • 補正磁場発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-056458   Applicant：日本電子株式会社
  • 特開平3-193036
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