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J-GLOBAL ID:200903089815632342
切削装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004209595
Publication number (International publication number):2006032661
Application date: Jul. 16, 2004
Publication date: Feb. 02, 2006
Summary:
【課題】半導体ウエーハ4の中心をチャックテーブル6の回転中心Oに確実に位置付けることを可能にすること。【解決手段】切削装置は、半導体ウエーハ4を載置して保持できる保持上面42a及び保持上面42aを囲繞する枠体44を有すると共に回転可能なチャックテーブル6と、保持上面42aに保持された半導体ウエーハ4を切削する切削手段とを備えている。枠体44には、保持上面42aに載置された半導体ウエーハ4の外周面に作用して、該半導体ウエーハ4をチャックテーブル6の回転中心Oに対し同心上に位置付ける中心位置付け手段が配設されている。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
半導体ウエーハを載置して保持できる保持上面及び該保持上面を囲繞する枠体を有すると共に回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルの該保持上面に保持された半導体ウエーハを切削する切削手段とを備えた切削装置において、
該チャックテーブルの該枠体には、該保持上面に載置された該半導体ウエーハの外周面に作用して、該半導体ウエーハを該チャックテーブルの回転中心に対し同心上に位置付ける中心位置付け手段が配設されている、
ことを特徴とする切削装置。
IPC (4):
H01L 21/301
, B23Q 3/18
, H01L 21/304
, H01L 21/68
FI (5):
H01L21/78 F
, B23Q3/18 C
, H01L21/304 601Z
, H01L21/68 G
, H01L21/78 N
F-Term (19):
3C016AA01
, 3C016HB07
, 5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA48
, 5F031HA02
, 5F031HA13
, 5F031HA59
, 5F031KA02
, 5F031KA11
, 5F031LA15
, 5F031MA21
, 5F031MA23
, 5F031PA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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平面研削方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-070773
Applicant:株式会社ディスコ
Cited by examiner (8)
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ウエーハセンタリング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-327124
Applicant:田邉和夫
-
ウェーハ保持装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-127103
Applicant:株式会社トプコン
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被処理体の位置決め装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-286069
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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機械化学的研磨装置のロードカップ、機械化学的研磨装置および基板の受け渡し方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-247236
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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特開昭54-047580
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特開昭54-047580
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平面研削方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-070773
Applicant:株式会社ディスコ
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半導体装置の製造方法および製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-341672
Applicant:シャープ株式会社
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