Pat
J-GLOBAL ID：200903090087026684

加速度センサおよびその製造方法

Inventor：
岡田 和廣

About 岡田 和廣


Applicant, Patent owner：
株式会社ワコー

About 株式会社ワコー


Agent (1)： 志村 浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002136596
Publication number (International publication number)：2003329702
Application date： May. 13, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 重錘体の変位を制限するための精密な制御構造を容易に構成する。【解決手段】 シリコン層100、酸化シリコン層20、シリコン層300の3層構造をもったSOI基板を用意し、上面からシリコンのみ選択的に除去可能な誘導結合型プラズマエッチングを行い、スリットS1,S2を開口する。続いて、下面から同様のエッチングを行い、溝部G1,G2を形成し、シリコン層300を重錘体310と台座330に分離する(図(a) )。次に、酸化シリコンのみ選択的に除去可能なエッチング液に浸漬し、酸化シリコン層20の露出部分近傍を除去し、接合層200とし(図(b) )、台座330の底面にガラス基板400を接合する。シリコン層100の上面に、ピエゾ抵抗素子を形成し、撓みを検出する。重錘体310の上方向の変位自由度は、接合層200の厚みにより正確に設定される。
Claim (excerpt)：
中央部分に設けられた変位部と、この変位部の周囲に設けられた固定部と、前記変位部を前記固定部に対して変位可能な状態となるように接続する接続部と、を有する基板層と、前記基板層の下方に配置され、前記固定部の内側部分下面に形成された制御面に対向する上面周囲部を有する重錘体と、前記重錘体の周囲を取り囲むように配置され、前記固定部を下方から支持固定する台座と、前記重錘体と前記基板層との間の空間における前記上面周囲部以外の領域に介挿され、前記重錘体および前記基板層とは異なる材料から構成され、前記重錘体を前記変位部の下面に接合する重錘体接合層と、前記変位部の変位を検出する変位検出手段と、を備え、前記重錘体に加速度が作用したときに、前記接続部に生じる撓みにより前記変位部が前記固定部に対して変位するように構成され、作用した加速度の所定方向成分の大きさが所定の許容値を越えたときに、前記上面周囲部が前記制御面に接触して変位が制御されるように、前記重錘体接合層の厚みが設定されていることを特徴とする加速度センサ。
IPC (2)：
G01P 15/12 ,  H01L 29/84
FI (3)：
G01P 15/12 D ,  H01L 29/84 A ,  H01L 29/84 Z
F-Term (16)：
4M112AA02 ,  4M112BA01 ,  4M112BA07 ,  4M112CA21 ,  4M112CA22 ,  4M112CA24 ,  4M112CA28 ,  4M112DA03 ,  4M112DA04 ,  4M112DA12 ,  4M112DA15 ,  4M112DA18 ,  4M112EA03 ,  4M112EA06 ,  4M112EA13 ,  4M112FA07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
Show all
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM