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J-GLOBAL ID：200903090417672324

高分子フィルム光導波路の製造方法

Inventor： 川田 久美子 ,  松浦 徹 ,  小林 潤也 ,  疋田 真 ,  山本 二三男
Applicant, Patent owner： エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002355711
Publication number (International publication number)：2004191414
Application date： Dec. 06, 2002
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

【課題】応力緩和のための後熱処理を行わずに光損失が小さい高分子フィルム光導波路を簡便に歩留まり良く製造する方法。【解決手段】仮基板上に高分子材料で構成される下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層の上に高分子材料で構成されるコア層を形成する工程と、前記仮基板を除去する工程とを含む高分子フィルム光導波路を製造する方法であって、前記仮基板が4×10-5/°C以上、1.2×10-4/°C以下の熱膨張係数を有することを特徴とする高分子フィルム光導波路の製造方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

仮基板上に高分子材料で構成される下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層の上に高分子材料で構成されるコア層を形成する工程と、前記仮基板を除去する工程とを含む高分子フィルム光導波路を製造する方法であって、前記仮基板が4×10-5/°C以上、1.2×10-4/°C以下の熱膨張係数を有することを特徴とする高分子フィルム光導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B6/13 ,  G02B6/12

FI (2)：

G02B6/12 M ,  G02B6/12 N

F-Term (8)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA36 ,  2H047TA42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 高分子光導波路フィルムとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-127414   Applicant：日本電信電話株式会社
• 高分子フィルム光導波路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-054376   Applicant：日本電信電話株式会社
• 低複屈折ポリイミド膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-187652   Applicant：日本電信電話株式会社
• 光配線フィルムの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-002775   Applicant：凸版印刷株式会社
• 光部品用基板とその製造方法、および該基板の熱膨張率制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-171414   Applicant：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 東レ・デュポン株式会社