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J-GLOBAL ID:200903090638862039
染料含有ネガ型硬化性組成物の製造方法、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006235928
Publication number (International publication number):2008058643
Application date: Aug. 31, 2006
Publication date: Mar. 13, 2008
Summary:
【課題】微小異物の発生を抑制し、塗布膜としたときの膜厚の膜厚の均一性(面内均一性)が良好な染料含有ネガ型硬化性組成物の製造方法を提供する。【解決手段】(A)染料、(B)光重合開始剤、及び(C)ラジカル重合性モノマーを含んでなる混合物を、孔径が0.02μm以上0.2μm未満のフィルタを通過させる工程を有する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)染料、(B)光重合開始剤、及び(C)ラジカル重合性モノマーを含んでなる混合物を、孔径が0.02μm以上0.2μm未満のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とする染料含有ネガ型硬化性組成物の製造方法。
IPC (3):
G03F 7/26
, G03F 7/004
, G02B 5/20
FI (4):
G03F7/26
, G03F7/004 504
, G03F7/004 505
, G02B5/20 101
F-Term (32):
2H025AA18
, 2H025AB13
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC44
, 2H025BC85
, 2H025BJ10
, 2H025CA07
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB43
, 2H025CC04
, 2H025CC13
, 2H025EA01
, 2H025FA01
, 2H025FA17
, 2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA47
, 2H048BA48
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H048BB46
, 2H096AA28
, 2H096AA30
, 2H096BA05
, 2H096CA12
, 2H096DA10
, 2H096EA02
, 2H096GA08
, 2H096GA30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
特開平2-181704号公報
-
特開平2-199403号公報
-
顔料分散型カラーフィルター用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100155
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
感放射線性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-205322
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
カラーレジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-227256
Applicant:ソニー株式会社
-
特開昭54-63903号公報
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Cited by examiner (6)
-
着色感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-057897
Applicant:日本化薬株式会社
-
着色剤含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-121529
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
着色感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-186034
Applicant:住友化学株式会社, ソニー株式会社
-
着色感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-075718
Applicant:住友化学工業株式会社
-
ホトレジスト溶液供給方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-186607
Applicant:東京応化工業株式会社
-
微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-288264
Applicant:住友化学工業株式会社
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