微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000288264
Publication number (International publication number)：2002099076
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】保存後においても微粒子量が低減されたフォトレジスト組成物を製造する方法を提供する。【解決手段】フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

Claim (excerpt)：

フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

IPC (7)：

G03F 7/004 , B01D 39/16 , B01D 61/14 500 , B01D 71/26 , B01D 71/36 , G03F 7/38 501 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/004 , B01D 39/16 Z , B01D 61/14 500 , B01D 71/26 , B01D 71/36 , G03F 7/38 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AB16 , 2H025BJ10 , 2H025EA01 , 2H096AA25 , 2H096CA20 , 2H096DA10 , 4D006GA02 , 4D006KA02 , 4D006KB14 , 4D006MA22 , 4D006MC22 , 4D006MC22X , 4D006MC30 , 4D006MC30X , 4D006MC54 , 4D006MC54X , 4D006PB20 , 4D006PC80 , 4D019AA03 , 4D019BA13 , 4D019BB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

積層型フィルタエレメント
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-161529 Applicant：ポール・コーポレーション
ホトレジスト溶液供給方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-186607 Applicant：東京応化工業株式会社
溶剤、溶液型キノンジアジド系感光剤、フォトレジスト組成物および洗浄液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-209739 Applicant：住友化学工業株式会社

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