超音波流体処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001131760
Publication number (International publication number)：2002329693
Application date： Apr. 27, 2001
Publication date： Nov. 15, 2002
Summary：

【要約】【課題】少量の処理液にて板状あるいは帯状の被処理材を超音波流体処理する超音波流体処理装置に関し、特に、200KHz以下の超音波を被処理材に印加して流体処理する超音波流体処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】超音波遅延機構10と、超音波反射機構20と、流体処理液供給機構30c及び30dと、流体処理液回収機構40a及び40bとで構成されており、超音波遅延機構10の筺体11内に遅延用液体61で満たされた超音波発振体12より超音波振動を発生させ、超音波反射機構20は筺体21内に遅延用液体61で満たされた超音波反射体22との間で定在波を発生させ、被処理材81で最大振幅値が得られるようにして、超音波発生遅延機構10及び超音波反射機構20と被処理材81との間に流体処理液71を供給しながら超音波流体処理を行う超音波流体処理装置。

Claim (excerpt)：

板状あるいは帯状の被処理材を超音波処理する処理装置であって、少なくとも超音波発生遅延機構と、被処理材を挟んで対向する超音波反射機構と、流体処理液供給機構と、前記被処理材表面に流体処理液を送り込む供給口と、流体処理後の流体を回収する排出口とを備えていることを特徴とする超音波液体処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 642 , B08B 3/12 , H01L 21/306

FI (3)：

H01L 21/304 642 E , B08B 3/12 A , H01L 21/306 J

F-Term (10)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201BB02 , 3B201BB83 , 3B201BB91 , 3B201CD22 , 3B201CD33 , 5F043AA01 , 5F043DD19 , 5F043EE05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

超音波洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-325210 Applicant：株式会社カイジョー
超音波基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-276707 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-338695 Applicant：大見忠弘, 株式会社フロンテック, オルガノ株式会社

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