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J-GLOBAL ID:200903090845376853
プラズマ誘導マイクロ波エネルギーによってプラズマを発生するための装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
酒井 一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996521819
Publication number (International publication number):1998512391
Application date: Jan. 11, 1996
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】気体状物質の混合物を包含する空間(2)内にプラズマ(10)を発生させるための装置及び方法。プラズマを発生させるために、本発明の一部をなす、少くとも一つの広範囲アプリケータ(1)を使用する。少くとも一つのマイクロ波発生器(5)が、適当な導波管(20)及びカップラ(22)によってマイクロ波エネルギーをアプリケータ内へ導入する。
Claim (excerpt):
反応容器内に少くとも部分的に電離したガスを有する、マイクロ波によって制御されたプラズマを発生させるための装置において、マイクロ波エネルギー供給源に接続した中空導体の形式のアプリケータを設け、該マイクロ波エネルギー供給源において、該アプリケータの前記電離したガスに接触する領域にある部分が除去され、該除去された部分がマイクロ波透過性材料によって占められ、それにより、前記制御されたプラズマが形成されると、プラズマは、前記アプリケータから発出されるマイクロ波エネルギーの少くとも一部を、該アプリケータの前記除去された部分へ反射することを特徴とする、マイクロ波によって制御されたプラズマを発生させるための装置。
IPC (7):
H05H 1/46
, C23C 14/54
, C23C 14/56
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
FI (7):
H05H 1/46 B
, C23C 14/54 B
, C23C 14/56 H
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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特開平1-100896
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マイクロ波プラズマ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-321424
Applicant:住友金属工業株式会社
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特開昭60-043902
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有磁場マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-239942
Applicant:堀池靖浩, 株式会社神戸製鋼所
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特開平3-247771
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ロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-140276
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開昭62-099481
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特開昭62-299101
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プラズマ処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-191878
Applicant:株式会社日立製作所
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マイクロ波放電反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-139133
Applicant:日電アネルバ株式会社
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特開平3-274696
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特開昭62-294181
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プラズマ生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-125668
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平3-209815
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