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J-GLOBAL ID：200903090917104292

露光装置及びデバイス製造方法

Inventor：
樋浦 充

About 樋浦 充

, 
辻 俊彦

About 辻 俊彦


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003073637
Publication number (International publication number)：2004006716
Application date： Mar. 18, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：
【課題】ターゲットを越えて直進するレーザー光によって光学素子が損傷することを防止して、高いスループットで高品位な露光を達成するための露光装置並びにデバイス製造方法を提供する。【解決手段】本発明では、励起レーザーをターゲットに照射し、発生したプラズマを利用して極端紫外線領域又はX線領域の照明光を生成するためのレーザー光源と、前記照明光を照明系の第1ミラーの手前で集光する楕円ミラーを有する露光装置であって、前記励起レーザーの光軸方向が前記プラズマを超えて進行した場合の光束が前記楕円ミラーを含む装置構成部位と非干渉になるように設定されている構成とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
励起レーザーをターゲットに照射し、発生したプラズマで極端紫外線領域又はX線領域の照明光を発生させる光源を生成し、前記照明光で反射型レチクルを照明するための照明光学系と、前記照明光を前記照明光学系の第1ミラーの手前で集光させる楕円ミラーと、前記レチクルで反射したパターンを被露光体上に縮小投影するための投影光学系を有する露光装置において、 前記励起レーザーの光軸方向が前記励起レーザーの前記プラズマが発生する位置を越えて進行した場合の光束が前記光学系を含む装置構成部位及び前記楕円ミラーと非干渉になるように設定されていることを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3)：
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 502 ,  G03F7/20 521
F-Term (9)：
2H097AA03 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03 ,  5F046GC05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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