Pat
J-GLOBAL ID：200903091144627424

熱処理装置

Inventor：
重岡 隆

About 重岡 隆


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999123671
Publication number (International publication number)：2000315658
Application date： Apr. 30, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 載置台表面の温度分布を緩和させた状態で被処理体を加熱することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】 処理容器12内に、被処理体Wを載置するための載置台26を設け、前記被処理体に所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記載置台の上面に均熱化板34を設置するように構成する。これにより、載置台表面の温度分布を緩和させた状態で被処理体を加熱することを可能とする。
Claim (excerpt)：
処理容器内に、被処理体を載置するための載置台を設け、前記被処理体に所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記載置台の上面に均熱化板を設置するように構成したことを特徴とする熱処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/324
FI (3)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/324 Q
F-Term (26)：
4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  4K030LA12 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB33 ,  5F045AD10 ,  5F045AE19 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EF05 ,  5F045EK07 ,  5F045EK12 ,  5F045EM02 ,  5F045EM08 ,  5F045EM09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • セラミツクスヒーター
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-253598   Applicant：日本碍子株式会社
  • 均熱セラミックスヒーター
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-071787   Applicant：信越化学工業株式会社
  • プレートヒータ及びその製法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-046840   Applicant：株式会社エイコー, 日新電機株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM