材料及び組織の精密加工用フェムト秒レーザーシステム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：藤本昇 , 薬丸誠一 , 中谷寛昭 , 岩田徳哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003559712
Publication number (International publication number)：2005514211
Application date： Jan. 17, 2003
Publication date： May. 19, 2005
Summary：

本発明は、ビーム光源(15)を有するパルスレーザシステム(10)、ビーム光源としての空洞集積フェムト秒発振器(11)を備えた、材料(90)具体的には生体材料を精密加工するための装置(1)に関する。

Claim (excerpt)：

ビーム光源(15)を有するパルスレーザシステム(10)を備え、空洞集積フェムト秒発振器(11)がビーム光源として備えられていることを特徴とする、材料(90)具体的には生体材料を精密加工するための装置(1)。

IPC (4)：

B23K26/00 , A61B18/20 , A61F9/007 , H01S3/00

FI (4)：

B23K26/00 G , H01S3/00 B , A61F9/00 550 , A61B17/36 350

F-Term (17)：

4C026AA10 , 4C026BB02 , 4C026BB07 , 4C026FF33 , 4C026HH04 , 4E068CA02 , 4E068CA03 , 4E068CB10 , 4E068CE03 , 4E068DB07 , 5F172AD05 , 5F172AD06 , 5F172AE03 , 5F172DD06 , 5F172NN17 , 5F172ZZ01 , 5F172ZZ03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光透過性材料のマーキング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-090605 Applicant：住友重機械工業株式会社
レーザ加工方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-315175 Applicant：株式会社東芝
レーザマーキング方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-322863 Applicant：株式会社小松製作所

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