レーザマーキング方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野口武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996322863
Publication number (International publication number)：1998166167
Application date： Dec. 03, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】製造効率を低下させることなく、しかも美麗で且つ高精度の刻印加工を実現できくレーザマーキング方法及び装置を提供する。【解決手段】マーキングパターンを表示可能なマスクに、第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示し、レーザ発振器からのレーザ光を前記第1偏向器を介して前記分割パターン上に順次走査させるとともに、ワーク表面の刻印位置を各分割パターンの1走査透過光毎に走査方向と直交する方向に第2偏向器により移動させて各分割パターンを合成刻印するレーザマーキング方法にあって、レーザ発振器(1) からのレーザ光をプリズム(5) 等を通過させることにより、レーザ光の光軸と交差する方向に2以上に分割するとともに、その2以上に分割された各分割レーザ光の一部を液晶マスク(3) の開口部(3a)の少なくともレーザ光の走査方向と交差する方向に重畳させて透過させ、同開口部(3a)を通過するレーザ光のエネルギー分布を均一化させて、刻印パターンの分割方向における筋状の陰影をなくして美麗なパターンを得る。

Claim (excerpt)：

マーキングパターンを表示可能なマスクに、第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示し、レーザ発振器からのレーザ光を前記第1偏向器を介して前記分割パターン上に順次走査させるとともに、ワーク表面の刻印位置を各分割パターンの1走査透過光毎に走査方向と直交する方向に第2偏向器により移動させて各分割パターンを合成刻印するレーザマーキング方法にあって、前記レーザ発振器からのレーザ光を、その光軸と交差する方向に2以上に分割させること、及び2以上に分割された各分割レーザ光の一部を重畳させて、前記マスクの透過光のうち少なくとも前記レーザ光の走査方向と交差する方向のエネルギー分布を均一化させること、を含んでなることを特徴とするレーザマーキング方法。

IPC (2)：

B23K 26/00 , H01L 21/02

FI (3)：

B23K 26/00 B , B23K 26/00 M , H01L 21/02 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

レーザマーキング方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-034419 Applicant：株式会社小松製作所
特開昭54-116799
照明光学系およびこれを用いた光学装置ならびにその光学装置を用いたデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-318246 Applicant：キヤノン株式会社

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