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J-GLOBAL ID:200903091976020392

エアレータ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小栗 昌平 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000094772
Publication number (International publication number):2001276589
Application date: Mar. 30, 2000
Publication date: Oct. 09, 2001
Summary:
【要約】【課題】 少ない消費エネルギで被処理液中に気泡サイズが数十μm程度の均一なサイズの気泡を継続的に大量供給することができるエアレータを提供する。【解決手段】 底部3aに吐出口4が開口して被処理液1中に浸漬される吐出流形成槽3と、液体供給口に加圧供給した液体の流れにより気体供給口から気体が自然吸引されることで、液体中に気体が混合された気液混合流を形成する気液混合手段22を有し、該気液混合手段7からの気液混合流を、吐出流形成槽3の周壁に沿って槽内を旋回する旋回流となる噴射方向で吐出流形成槽3に加圧供給する気液混合流供給手段7とを備え、吐出流形成槽3に気液混合流を加圧供給して形成した気液二相流を吐出口4から被処理液1中に拡散噴射する。
Claim (excerpt):
液体中に気相を取り込んで形成した気液二相流を被処理液中に吐出することで該被処理液に微細気泡を供給するエアレータにおいて、底部に吐出口が開口して被処理液中に浸漬される吐出流形成槽と、液体供給口に加圧供給した液体の流れにより気体供給口から気体が自然吸引されることで、液体中に気体が混合された気液混合流を形成する気液混合手段を有し、該気液混合手段からの気液混合流を、前記吐出流形成槽の周壁に沿って槽内を旋回する旋回流となる噴射方向で前記吐出流形成槽に加圧供給する気液混合流供給手段とを備え、前記吐出流形成槽に気液混合流を加圧供給して形成した気液二相流を前記吐出口から被処理液中に拡散噴射することを特徴とするエアレータ。
IPC (5):
B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/04 ,  B01F 15/02 ,  C02F 3/22 ZAB
FI (5):
B01F 3/04 C ,  B01F 5/00 G ,  B01F 5/04 ,  B01F 15/02 A ,  C02F 3/22 ZAB B
F-Term (12):
4D029AA09 ,  4D029AB03 ,  4D029BB11 ,  4D029CC07 ,  4G035AB15 ,  4G035AB16 ,  4G035AC15 ,  4G035AC24 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G037AA02 ,  4G037EA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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