Pat
J-GLOBAL ID：200903092202640696

X線発生装置

Inventor：
浮田 昌昭

About 浮田 昌昭


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004092076
Publication number (International publication number)：2005276760
Application date： Mar. 26, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：
【課題】 電子ビーム衝突点付近の表面温度を低下させることにより、ターゲットの長寿命化を図って装置の稼働率を高め、連続したX線の発生時間を長したり、強いX線を発生させられるX線発生装置を提供する。【解決手段】 ターゲットの表面に放熱層を備える。具体的には、開口21が形成された表面固体部20を、ターゲット部18の表面に密着した状態で設ける。すると、開口21を通過する電子ビームBが衝突して発生したターゲット表面付近の熱は、熱伝導により表面固体部20を介して速やかに分散される。このような放熱層を設けた本発明では、電子ビームBの衝突するターゲット部18の表面の温度が低下し、ターゲット材料が蒸発するのを低減することができるので、連続したX線発生時間を長くできる。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
ターゲットに対して電子ビームを照射してX線を発生させるX線発生装置において、電子ビームが照射される前記ターゲットの表面に接する放熱層を備えていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (5)：
H01J35/12 ,  G21K5/08 ,  H01J35/08 ,  H01J35/14 ,  H01J35/30
FI (6)：
H01J35/12 ,  G21K5/08 C ,  G21K5/08 X ,  H01J35/08 F ,  H01J35/14 ,  H01J35/30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (7)
  • 特開平3-077252
  • X線発生用ターゲット及びこれを用いたX線管
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-253817   Applicant：浜松ホトニクス株式会社
  • X線発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-190542   Applicant：株式会社島津製作所
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM