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J-GLOBAL ID:200903092462468196

ガス発生剤及びマイクロポンプ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 宮▲崎▼主税 ,  目次 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007258597
Publication number (International publication number):2009084128
Application date: Oct. 02, 2007
Publication date: Apr. 23, 2009
Summary:
【課題】微細流路が形成されているマイクロ流体デバイスのマイクロポンプに用いられるガス発生剤であって、光が照射されるとガスを効率的に発生し、マイクロ流体を搬送することができ、しかも送液効率を高めることができるガス発生剤、及び該ガス発生剤を用いたマイクロポンプを提供する。【解決手段】基板内に微細流路が形成されているマイクロ流体デバイスのマイクロポンプに用いられるガス発生剤であって、アゾ化合物とバインダー樹脂とを含むガス発生剤、及び該ガス発生剤13が内部に収納されているマイクロポンプ10。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板内に微細流路が形成されているマイクロ流体デバイスのマイクロポンプに用いられるガス発生剤であって、 アゾ化合物と、バインダー樹脂とを含むことを特徴とする、ガス発生剤。
IPC (6):
C06D 5/00 ,  C06B 23/00 ,  C06B 43/00 ,  F04B 9/00 ,  F04B 19/24 ,  F04F 1/00
FI (6):
C06D5/00 Z ,  C06B23/00 ,  C06B43/00 ,  F04B9/00 C ,  F04B19/24 ,  F04F1/00
F-Term (12):
3H069AA01 ,  3H069BB11 ,  3H069CC06 ,  3H069DD01 ,  3H069EE47 ,  3H075DB01 ,  3H075DB09 ,  3H079AA02 ,  3H079BB09 ,  3H079CC03 ,  3H079CC19 ,  3H079DD13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • ダイヤフラムポンプ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-319097   Applicant:株式会社日立製作所
  • 流体供給装置及び流体供給方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-208072   Applicant:松下電器産業株式会社
  • キャピラリ-電気泳動装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-165555   Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (4)
  • マイクロ全分析システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-114409   Applicant:積水化学工業株式会社
  • マイクロ全分析システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-119388   Applicant:積水化学工業株式会社
  • マイクロ全分析システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-183941   Applicant:積水化学工業株式会社
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