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J-GLOBAL ID：200903092694841462

化学増幅型レジスト用塗布液組成物

Inventor： 脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992290961
Publication number (International publication number)：1994118630
Application date： Oct. 06, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【構成】 水溶性膜形成成分とプロトン発生物質とを含有して成る化学増幅型レジスト用塗布液組成物である。【効果】 リソグラフィー処理における干渉を防止するとともに、プロトンを補給する効果を有し、断面形状に優れたパターンを与えることができる。

Claim (excerpt)：

水溶性膜形成成分とプロトン発生物質とを含有して成る化学増幅型レジスト用塗布液組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-244714   Applicant：株式会社東芝
• パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-100310   Applicant：株式会社東芝
• レジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-157738   Applicant：富士通株式会社