近接場光を用いた光学装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001217545
Publication number (International publication number)：2003028774
Application date： Jul. 18, 2001
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：

【要約】【課題】高空間分解能と高感度を両立する近接場光学装置を提供する。【解決手段】異方性のある形状をした金属パターン106に発生する局在プラズモンを用いて高強度な近接場光を狭領域に発生させ、被測定対象物を照明する。入射光103の偏光方向104を変調し、信号光を同期検波することにより背景光を除去して高感度化を実現する。

Claim (excerpt)：

基板上に配置され尖端部を有する金属部材と、偏光方向を変調するための光源装置と、前記光源装置からの光を前記金属部材の尖端部に照射する光学部材と、前記金属部材の尖端部から発生する近接場光で試料を照明し、前記試料を透過した光、または前記試料に反射もしくは散乱された光を検出する検出器と、前記検出器からの電気信号より前記偏光変調に同期した信号を取り出すための分離器とを有してなることを特徴とする近接場光を用いた光学装置。

IPC (2)：

G01N 13/14 , G11B 7/135

FI (4)：

G01N 13/14 A , G01N 13/14 B , G11B 7/135 A , G11B 7/135 Z

F-Term (3)：

5D119AA22 , 5D119BA01 , 5D119JA34

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

走査型近接場顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-146518 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
偏光を利用した走査型近視野顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-134178 Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの加工方法および光記録再生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-066489 Applicant：株式会社日立製作所

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