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J-GLOBAL ID:200903094215604802
シリコンナノワイヤーの製造法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003086558
Publication number (International publication number):2004296750
Application date: Mar. 26, 2003
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】結晶方位が揃いサイズが一定で、かつ直線部分が数mmの切断、組み立てが容易な、シリコンナノワイヤーおよびシリコン・ゲルマニウム合金ナノワイヤーの製造方法を提供する。【解決手段】キャリアーガスの流通下にシリコンまたはシリコン・ゲルマニウム合金をその融点より低い温度で蒸発させ、900°C以上1300°C以下の温度の均熱部においてナノワイヤーを成長させる。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
キャリアーガスの流通下において、シリコンあるいはシリコン・ゲルマニウム合金をその融点よりも低い温度で蒸発させ、キャリアーガスの流通下流域の均熱部において900°C以上1300°C以下の温度範囲でシリコンあるいはシリコン・ゲルマニウム合金のナノワイヤーを成長させることを特徴とするシリコンナノワイヤーの製造方法。
IPC (3):
H01L29/06
, B82B3/00
, C01B33/02
FI (3):
H01L29/06 601N
, B82B3/00
, C01B33/02 Z
F-Term (9):
4G072AA01
, 4G072BB04
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072LL01
, 4G072LL03
, 4G072RR11
, 4G072UU01
, 4G072UU07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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酸化珪素のナノワイヤの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-342408
Applicant:科学技術振興事業団
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同位体シリコンナノワイヤーとその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-333257
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構, 科学技術振興事業団
-
シリコンゲルマニウムナノワイヤーとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-228151
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
Cited by examiner (3)
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酸化珪素のナノワイヤの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-342408
Applicant:科学技術振興事業団
-
同位体シリコンナノワイヤーとその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-333257
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構, 科学技術振興事業団
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シリコンゲルマニウムナノワイヤーとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-228151
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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