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J-GLOBAL ID：200903094288850763

基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法

Inventor： 高林 幸夫 ,  鵜澤 繁行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 西山 恵三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999119631
Publication number (International publication number)：2000311933
Application date： Apr. 27, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 異物の付着を軽減し、あるいは異物を速やかに除去させるクリーニング手段を提供する。【解決手段】 本発明の基板保持装置は、基板保持部に光触媒反応を生成する薄膜を形成することを特徴とする。この構成によって、素子製造上の歩留まりを悪化させる異物を付着しにくくする手段、あるいは、速やかに除去させる手段を提供することを目的とする。

Claim (excerpt)：

基板を保持する基板保持装置であって、基板を保持する基板保持部に光触媒反応を生成する薄膜を形成することを特徴とする基板保持装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 645

FI (4)：

H01L 21/68 P ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 503 A

F-Term (11)：

5F031EA04 ,  5F031GA32 ,  5F031HA08 ,  5F031HA10 ,  5F031HA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 露光装置及びデバイスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-282995   Applicant：キヤノン株式会社
• 静電チャックの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-351201   Applicant：京セラ株式会社
• 基板処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-195683   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 複写用装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-222009   Applicant：株式会社ブリヂストン
• ウェハ用真空チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-030567   Applicant：住友金属工業株式会社
• 真空吸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-046786   Applicant：京セラ株式会社
• ステージ装置及び投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-110376   Applicant：株式会社ニコン