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J-GLOBAL ID：200903094562041893

アライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法、露光用マスク、該マスクを備えた露光装置

Inventor：
山口 貴子

About 山口 貴子

, 
黒田 亮

About 黒田 亮


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003132587
Publication number (International publication number)：2004335910
Application date： May. 12, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】メンブレン部分を有する露光用マスクを用いる露光において、露光すべき位置とのずれの少ない位置の検出ができ、作製デバイスの歩留まりを向上させることが可能となるアライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法、露光用マスク、該マスクを備えた露光装置を提供する。【解決手段】メンブレン部分101を有する露光用マスクをフォトレジスト300に密着させて露光するに際して、該露光用マスクと該フォトレジストとをアライメントする方法であって、該メンブレン部分101を撓ませ、該メンブレン部分に形成されたアライメントを行うための構造物106を、該フォトレジスト300に接触させることによって露光すべき位置を検出し、アライメントを行う。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
メンブレン部分を有する露光用マスクを被露光物に密着させて露光するに際して、前記露光用マスクと前記被露光物とをアライメントする方法であって、 前記メンブレン部分を撓ませ、前記メンブレン部分に形成されたアライメントを行うための構造物を、前記被露光物に接触させることによって露光すべき位置を検出し、アライメントを行うことを特徴とするアライメント方法。
IPC (4)：
H01L21/027 ,  G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00
FI (6)：
H01L21/30 505 ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503 ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 502D ,  H01L21/30 508
F-Term (14)：
2H095BA04 ,  2H095BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097GA00 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10 ,  5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046EA02 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA03 ,  5F046FC05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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