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J-GLOBAL ID:200903094908999886
毛髪用の洗浄料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005005816
Publication number (International publication number):2006193461
Application date: Jan. 13, 2005
Publication date: Jul. 27, 2006
Summary:
【課題】 リンスなどの毛髪用の洗浄剤の系に於いて、安定なベシクル乃至はベシクル分散系を形成する技術を提供する。 【解決手段】 1)リン脂質と2)次の一般式(1)に示すカチオン性界面活性剤とを毛髪用の化粧料に含有させる。前記リン脂質としては、レシチン、ホスファチジルグリセロール、ホスファチジルセリン、ホスファチジルイノシトール、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジル酸及びそれらのリゾ体から選択されるものが好ましく、一般式(1)に表されるカチオン性界面活性剤としては、ジメチルジステアリルアンモニウムであることが好ましく、ベシクル系であることが好ましく、リンス乃至はトリートメントであることが好ましい。【化1】一般式(1) 【選択図】 なし
Claim (excerpt):
1)リン脂質と2)次の一般式(1)に示すカチオン性界面活性剤とを含有することを特徴とする毛髪用の洗浄料。
IPC (5):
A61K 8/00
, A61Q 5/02
, A61Q 5/12
, C11D 1/62
, C11D 3/36
FI (4):
A61K7/075
, A61K7/08
, C11D1/62
, C11D3/36
F-Term (22):
4C083AC122
, 4C083AC691
, 4C083AC692
, 4C083AC712
, 4C083AD492
, 4C083AD571
, 4C083AD572
, 4C083BB06
, 4C083CC33
, 4C083CC38
, 4C083CC39
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD45
, 4C083EE01
, 4C083EE29
, 4C083FF05
, 4H003AE05
, 4H003DA02
, 4H003EB05
, 4H003EB39
, 4H003FA37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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混合ベシクル、これを用いたエマルション、及びこれらの調製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-197628
Applicant:学校法人神奈川大学
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特定のバインダーを含むパウダーの形態のメイクアップ及び/または化粧ケア組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-148415
Applicant:ロレアル
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高分子輸送ビヒクル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-229186
Applicant:スティッヒティングフォーアデテヒニッシュヴェテンジャッペン, リイクスウニヴェルシタイトグロニンゲン, スティッヒティングシェイクンディッグオンデルツォエクインネーデルランド
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Cited by examiner (19)
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特開昭59-181206
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特開昭59-181206
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毛髪用化粧料組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-346973
Applicant:一丸ファルコス株式会社
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-069361
Applicant:株式会社資生堂
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-337047
Applicant:有限会社野々川商事
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カチオン性リポソームとポリデオキシリボヌクレオチドとの複合体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-167009
Applicant:クリノスインダストリアファルマコバイオロジカエッセ.ピ.ア.
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特公昭40-006119
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特開昭53-134784
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毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-235025
Applicant:花王株式会社
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ベシクル技術を利用して下刷りすることにより染料ベースのインクの彩度とエッジ明瞭度を高める方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-247224
Applicant:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-357166
Applicant:日興製薬株式会社
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ヘアコンディショニング組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-305463
Applicant:株式会社コーセー
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-310317
Applicant:株式会社コーセー
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特開昭53-134784
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特開昭59-181206
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特開昭53-134784
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特公昭40-006119
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リポソームサイズを調節する方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-596911
Applicant:アルザ・コーポレーション
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特公昭40-006119
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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日本化粧品成分表示名称事典, 20010427, 第1版第1刷発行, pp.499,500
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