膜厚測定装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅井章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996257834
Publication number (International publication number)：1998082631
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】極めて不純物の少ない雰囲気ガス中で膜厚測定を行なうことにより、膜厚の測定値の変動を抑制するようにした膜厚測定装置を提供する。【解決手段】被検査体Wを導入する導入ステージ10に載置した被検査体を検査台54上に移載し、該被検査体に測定光Lを照射して被検査体の表面に形成されている薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置において、前記被検査体を前記導入ステージと前記検査台との間で搬送する搬送空間36,48と、前記検査台が位置する測定空間50とを略気密に覆う覆い部材38,52を設け、該覆い部材により囲まれた前記搬送空間と前記測定空間に不純物が極めて少ない純粋ガスを導入する純粋ガス導入部64A〜64Eを設けるように構成する。これにより、被検査体の表面に不純物が付着することを防止する。

Claim (excerpt)：

被検査体を導入する導入ステージに載置した被検査体を検査台上に移載し、該被検査体に測定光を照射して被検査体の表面に形成されている薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置において、前記被検査体を前記導入ステージと前記検査台との間で搬送する搬送空間と、前記検査台が位置する測定空間とを略気密に覆う覆い部材を設け、該覆い部材により囲まれた前記搬送空間と前記測定空間に不純物が極めて少ない純粋ガスを導入する純粋ガス導入部を設けるように構成したことを特徴とする膜厚測定装置。

IPC (3)：

G01B 21/08 , G01B 11/06 , H01L 21/66

FI (3)：

G01B 21/08 , G01B 11/06 G , H01L 21/66 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平1-157544
真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-089342 Applicant：株式会社荏原製作所
分析方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-105746 Applicant：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社

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