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J-GLOBAL ID:200903095114080515
インサイチュ・キャップ及び集積回路装置用インサイチュ・キャップの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (8):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002572637
Publication number (International publication number):2004535938
Application date: Mar. 06, 2002
Publication date: Dec. 02, 2004
Summary:
マイクロマシン装置のような集積回路装置(10)用インサイチュ・キャップ、及び基板(14)上に集積回路素子(122)を形成し;集積回路素子(122)上に支持層(124)を形成し、集積回路素子(122)を覆う支持層(124)にキャップ構造(22)を形成することによってそのようなキャップ(40)を製造する方法。
Claim (excerpt):
マイクロマシン装置用インサイチュ・キャップの製造方法であって、
完全な犠牲支持層を有する基板上にマイクロマシン素子を形成する段階と、
前記マイクロマシン素子上にキャップ犠牲支持層を形成する段階と、
前記マイクロマシン素子を覆う前記犠牲支持層にキャップ構造を形成する段階と、
前記素子と一体とされたインサイチュ・キャップを残して前記マイクロマシン素子を解放するために前記キャップ構造内の前記犠牲支持層を除去する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (6):
B81C1/00
, B81B3/00
, H01H57/00
, H01L21/3205
, H01L21/768
, H01L23/02
FI (6):
B81C1/00
, B81B3/00
, H01H57/00 A
, H01L23/02 J
, H01L21/88 S
, H01L21/90 N
F-Term (13):
5F033HH08
, 5F033HH13
, 5F033JJ07
, 5F033JJ08
, 5F033JJ13
, 5F033KK01
, 5F033QQ09
, 5F033QQ37
, 5F033RR04
, 5F033RR30
, 5F033VV00
, 5F033VV13
, 5F033XX03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
振動式トランスデューサとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-223882
Applicant:横河電機株式会社
-
慣性力センサおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-160171
Applicant:三菱電機株式会社
-
動作素子の真空封止の構造およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-329738
Applicant:株式会社村田製作所
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