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J-GLOBAL ID：200903095125193800

電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置

Inventor： 加藤木 克也 ,  田中 昇平 ,  川上 辰男 ,  新堀 俊一郎 ,  木村 誠 ,  横須賀 俊太郎 ,  安藤 淳 ,  清水 哲夫 ,  三沢 源人
Applicant, Patent owner： 株式会社三友製作所 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 田中 宏 ,  樋口 榮四郎 ,  宮本 晴視
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005038093
Publication number (International publication number)：2006227108
Application date： Feb. 15, 2005
Publication date： Aug. 31, 2006
Summary：

【課題】 極めて微細かつ精緻な顕体試料の観察のみならず、オペレーターが顕微鏡の画像を観察しながら、電気的測定、さらには電気的超微細加工を、円滑かつ確実に行なうことを可能とするデュアルプローブを載置した電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置の提供。【解決手段】 X軸、Y軸、Z軸方向への駆動及びT軸および/またはR軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブ11とそれに接合するサブプローブ12よりなるデュアルプローブ10を載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置である。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

X軸、Y軸、Z軸方向への駆動及びT軸および/またはR軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブとそれに接合するサブプローブよりなるデュアルプローブを載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置。

IPC (1)：

G02B 21/32

FI (1)：

G02B21/32

F-Term (5)：

2H052AD20 ,  2H052AD21 ,  2H052AD24 ,  2H052AF19 ,  2H052AF25

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-025155   Applicant：株式会社三友製作所, 山本佳男
• 微細作業用マイクロマニピュレーション装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-169974   Applicant：株式会社三友製作所
• 半導体検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-238654   Applicant：山口日本電気株式会社