微細作業用マイクロマニピュレーション装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田中宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001169974
Publication number (International publication number)：2002365334
Application date： Jun. 05, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【目的】本発明は、顕微鏡画像下において、顕体試料の加工や測定、検査等の微細作業を効果的に行なうための装置に係わるものである。【構成】共通チャンバーベース上に、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動とZ軸回りの回転が可能な試料ステージを載置し、更に前記試料ステージ上には、作業台およびX軸、Y軸、Z軸方向への粗動と微動が可能なマニピュレータユニットとを置き、前記作業台上に載置された顕体試料と、前記マニピュレータ上に搭載されたマイクロプローブとを顕微鏡視野下で観察しながら微細作業を行なうことを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置を提供する。

Claim (excerpt)：

共通チャンバーベース上に、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動とZ軸回りの回転が可能な試料ステージを載置し、更に前記試料ステージ上には、作業台およびX軸、Y軸、Z軸方向への粗動と微動が可能なマニピュレータユニットとを置き、前記作業台上に載置された顕体試料と、前記マニピュレータ上に搭載された電気的機能を有するマイクロプローブとを顕微鏡視野下で観察しながら微細作業を行なうことを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置。

IPC (7)：

G01R 31/28 , B25J 7/00 , G01R 1/06 , G01R 31/26 , G02B 21/32 , H01L 21/302 , H01L 21/66

FI (9)：

B25J 7/00 , G01R 1/06 E , G01R 31/26 J , G02B 21/32 , H01L 21/66 B , H01L 21/66 L , H01L 21/66 M , G01R 31/28 K , H01L 21/302 Z

F-Term (46)：

2G003AA07 , 2G003AA10 , 2G003AG03 , 2G003AG13 , 2G003AG20 , 2G003AH01 , 2G003AH04 , 2G003AH05 , 2G003AH06 , 2G003AH07 , 2G011AA02 , 2G011AB04 , 2G011AC14 , 2G011AE03 , 2G132AA00 , 2G132AE02 , 2G132AE22 , 2G132AF06 , 2G132AF07 , 2G132AL03 , 2G132AL04 , 2G132AL06 , 2G132AL11 , 2H052AF19 , 3C007AS14 , 3C007BS26 , 3C007BS30 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA11 , 4M106BA20 , 4M106CA04 , 4M106CA05 , 4M106CA10 , 4M106CA11 , 4M106DD30 , 4M106DJ04 , 4M106DJ06 , 4M106DJ39 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB24 , 5F004BD07 , 5F004EA38 , 5F004EB02 , 5F004EB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-025155 Applicant：株式会社三友製作所, 山本佳男
プローブステーション
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-120177 Applicant：和泉精機株式会社
特開平3-124040

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