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J-GLOBAL ID：200903095201700180

2流体ノズル及び洗浄装置

Inventor：
逢坂 勉

About 逢坂 勉


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (2)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005071571
Publication number (International publication number)：2006247619
Application date： Mar. 14, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：
【課題】 噴射用ガスの使用量を減らすと共に、被洗浄物に噴射する液滴の径を均一にして、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。【解決手段】 2流体ノズルを、ガスと液体とを混合する混合部と、前記ガスを前記混合部へ導くガス流通路と、前記ガス流通路に設けられた前記ガスを回転させるためのスパイラル構造で構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
回転することにより加速したガスと液体とを混合して液滴を発生することを特徴とする2流体ノズル。
IPC (4)：
B05B 7/04 ,  B01F 3/04 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304
FI (4)：
B05B7/04 ,  B01F3/04 F ,  B08B3/02 A ,  H01L21/304 643C
F-Term (18)：
3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  4F033QA09 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QD02 ,  4F033QD03 ,  4F033QD09 ,  4F033QD20 ,  4G035AB06 ,  4G035AB11 ,  4G035AB16 ,  4G035AC44
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (7)
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