純水供給システム及び洗浄装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997264545
Publication number (International publication number)：1999099382
Application date： Sep. 29, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】洗浄効率のばらつきが少ない洗浄を可能たらしめる純水供給システムおよび洗浄装置を提供することを目的とする。また、高い洗浄効率を達成することができる純水供給システムおよび洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】洗浄システムは、純水を製造する純水製造装置1と、純水製造装置1に接続された純水供給配管10と、純水供給配管10につながる純水使用部3の上流側の純水供給配管10aに接続した純水に基板洗浄に有用なガスを溶解するガス溶解装置40とからなる。洗浄装置は、洗浄槽と、該洗浄槽に至る純水供給配管から供給される純水に基板洗浄用の有用ガスを溶解するガス溶解装置とを具備し、有用ガス溶解後の有用ガス含有純水に超音波を付与するための超音波素子を前記洗浄槽に設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

純水を製造する純水製造装置と、該純水製造装置に接続された純水供給配管と、該純水供給配管につながる純水使用部の上流側の純水供給配管に接続した純水に基板洗浄に有用なガスを溶解するガス溶解装置とからなることを特徴とする純水供給システム。

IPC (3)：

C02F 1/00 , C02F 1/20 , H01L 21/304 341

FI (3)：

C02F 1/00 Z , C02F 1/20 A , H01L 21/304 341 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開平2-031885
特開平4-058528
特開平2-091922

Show all

Cited by examiner (7)

特開平2-031885
特開平4-058528
特開平2-091922

Show all

Return to Previous Page