Pat
J-GLOBAL ID:200903078349118160
洗浄方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997177153
Publication number (International publication number):1998071375
Application date: Jul. 02, 1997
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 被洗浄物表面のパーティクル等の汚染物を効果的に除去することが可能な洗浄方法を提供するものである。【解決手段】 脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴としている。
Claim (excerpt):
脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (4):
B08B 3/10
, C02F 1/46
, C11D 7/00
, H01L 21/304 341
FI (4):
B08B 3/10 Z
, C02F 1/46 Z
, C11D 7/00
, H01L 21/304 341 N
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
多孔質表面の洗浄方法および半導体表面の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-138584
Applicant:キヤノン株式会社
-
精密洗浄方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-323334
Applicant:島田理化工業株式会社
-
ウエット処理方法および処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-184893
Applicant:大見忠弘
-
洗浄液および洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-005400
Applicant:都田昌之
-
微細加工品の洗浄方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-053693
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Return to Previous Page