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J-GLOBAL ID:200903095463191570
ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにその製造装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002371728
Publication number (International publication number):2004203935
Application date: Dec. 24, 2002
Publication date: Jul. 22, 2004
Summary:
【課題】本発明では、前述した膜の付着などが問題となるプラズマCVD法を用いることなく、着色がなく、高透明性、高いガスバリア性のある、フィルム及びその製造方法並びにその製造装置を提供することにある。【解決手段】プラズマを発生させ、フィルムの一方の面にプラズマから供給されるイオンを印加した高電圧パルスにより加速し、フィルム中にイオン注入するフィルムの製造方法であって、該高電圧パルスの電圧が、負の電圧であり絶対値が2kVより大きい電圧で、かつ該高電圧パルス電圧の立ち上がりが、負の方向で1μs当たり絶対値が1kV以上であることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法としたものである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
イオン注入することにより、フィルム表面より1μm以内の深さの位置に高密度層を形成されてなることを特徴とするガスバリア性フィルム。
IPC (3):
C08J7/00
, H05H1/24
, H05H1/46
FI (4):
C08J7/00 306
, C08J7/00
, H05H1/24
, H05H1/46 A
F-Term (10):
4F073AA17
, 4F073BA24
, 4F073CA07
, 4F073CA09
, 4F073CA10
, 4F073CA62
, 4F073CA63
, 4F073CA64
, 4F073CA65
, 4F073CA69
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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ガスバリヤー性高分子膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-305836
Applicant:住友電気工業株式会社
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立体高分子材料の表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-334520
Applicant:コリアインスティチュートオブサイエンスアンドテクノロージ
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ガスバリヤー性薄膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-180751
Applicant:日東電工株式会社
-
表面改質方法及び表面改質装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-196924
Applicant:工業技術院長, 株式会社栗田製作所
-
表面処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-208416
Applicant:ソニー株式会社
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表面処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-296979
Applicant:ソニー株式会社
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