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J-GLOBAL ID：200903095981766705

二成分現像剤

Inventor：
山崎 征人

About 山崎 征人

, 
亀山 幸嗣

About 亀山 幸嗣

, 
秋山 孝治

About 秋山 孝治


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社


Agent (1)： 細田 芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001297894
Publication number (International publication number)：2003107805
Application date： Sep. 27, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】シリカの埋め込みやキャリア上がりを生じることなく、高速機においても、高品質な画像を連続して得ることができる二成分現像剤を提供すること。【解決手段】トナーとキャリアとからなる二成分現像剤であって、前記トナーが平均粒径25nm以上の疎水性シリカを外添してなり、前記キャリアの飽和磁化が50〜95emu/gであり、電界強度100V/cmにおける前記キャリアの表面抵抗率と体積抵抗率の比(表面抵抗率/体積抵抗率)が1×102 〜1×104 m-1である二成分現像剤。
Claim (excerpt)：
トナーとキャリアとからなる二成分現像剤であって、前記トナーが平均粒径25nm以上の疎水性シリカを外添してなり、前記キャリアの飽和磁化が50〜95emu/gであり、電界強度100V/cmにおける前記キャリアの表面抵抗率と体積抵抗率の比(表面抵抗率/体積抵抗率)が1×102〜1×104 m-1である二成分現像剤。
IPC (2)：
G03G 9/10 ,  G03G 9/08 375
FI (2)：
G03G 9/10 ,  G03G 9/08 375
F-Term (11)：
2H005AA08 ,  2H005BA02 ,  2H005BA06 ,  2H005CA12 ,  2H005CB02 ,  2H005CB13 ,  2H005EA01 ,  2H005EA02 ,  2H005EA05 ,  2H005EA07 ,  2H005FA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (34)
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